大族激光在互动平台上表示，公司在研光刻机项目分辨率 3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED 等方面的应用，目前已接到少量订单。

  此前，大族激光也在互动平台表示，公司在研光刻机项目主要聚焦在分立器件、LED 等领域的应用，尚未实现销售。

  众所周知，高端芯片制造所需的光刻机一直以来被荷兰ASML公司垄断，一台精密光刻机售价上百亿，而我国半导体行业起步较晚，光刻机技术与 ASML 的差距非常大。

  具体地，我国光刻机最高技术也就上海微电子所生产的 90nm 光刻机。除此之外，目前合肥芯硕半导体公司也具备量产 200nm 光刻机的实力，无锡影幻半导体公司也具备 200nm 光刻机量产的实力。而 ASML 则在 7nm 级别。

  简单来看，这些数字差距可能看起来不大，但事实上，90nm 跟 28nm 或者是 7nm 是千差万别的，光刻机每上一个台阶技术难度就会大幅度提升，可能从 90nm 升级到 65nm 并不难，但是从 65nm 升级到 45nm，就是一个技术节点了，至于 28nm、14nm 和 7nm，甚至未来有可能出现的 3nm，那难度就更大了。

  也正因为如此，我国的光刻机的研发进度一直都比较缓慢，而随着大族激光在研光刻机项目的有序推进，也为我国光刻机的研发向前推进提供了一点点助力。

  关键字：引用地址：大族激光3-5μm光刻机已接订单，国产半导体正艰难翻身

  外媒报导，先进制程产能利用率开始下滑，且评估下滑时间将持续一段时间，为节省EUV的巨大耗电，台积电计划年底开始，关机部分EUV光刻机设备。对此，台积电表示不评论市场传闻。 之前芯片荒席卷全球，许多芯片厂商为实现用户需求，大幅扩产企图快速抢占市场。但2022年以来，消费电子市场需求明显下滑，导致供过于求，出现砍单降价、厂商取消扩产计划等。7月开始，市场传出受消费电子市场需求低迷影响，不少芯片厂商遭客户砍单，甚至台积电也难以幸免。加上不少芯片价格频频跳水，有的芯片价格甚至下跌八成，影响到先进制程产能利用率。 台积电拥有大约80部EUV光刻机设备，用于7nm、5nm、4nm等先进制程，且9月台积电还将开始量产最新的3纳米制程

  缩小晶体管尺寸对于持续提升芯片性能至关重要，半导体行业从未停止探索缩小晶体管尺寸的方法。 ASML 首席技术官 Martin van den Brink 在 2022 年 9 月接受媒体采访时表示，光刻技术经过数十年的创新发展之后，High-NA EUV 可能走到了该技术的尽头。 ASML 经过 1 年多的探索，有种“船到桥头自然直，柳暗花明又一村”的突破，Brink 在《2023 年度报告》中提出了 Hyper-NA EUV 概念，有望 2030 年问世。 IT之家翻译 Brink 在《报告》中内容如下： NA 高于 0.7 的 Hyper-NA 无疑是新机遇，将成为 2030 年之后的新愿景。Hyper-NA 和逻辑电路息息相关

  探索 Hyper-NA EUV：2030 推进至 0.7nm 工艺 /

  11月12日晚间，大族激光发布投资者调研有关信息，该公司在激光器、切割头、数控系统、电机等核心部件上，均具备自产能力，核心部件自产率超过90%。 2020年前三季度，大族激光搭载自制高功率激光器的设备出货量超过400台。随公司高功率激光器自制比例的提升，有望带来成本规模效应的逐步加强。 在PCB业务领域，前三季度，公司龙头产品机械钻孔机销量持续增长，多品类LDI设备、CO2激光钻孔设备等激光产品以及定制化高精度测试机份额快速提升，整体竞争力慢慢地加强，业务相较去年同期实现大幅度增长。三季度以来，PCB行业延续了上半年的高景气度，大客户下单仍比较积极。按照每个客户的扩产情况去看，公司PCB业务有望延续良好的增长势头。后续，公司将通过进

  荷兰向中国出口 EUV 光刻机，拜登会同意吗？ 中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机。 具体来说，就是 EUV （极紫外光源）光刻机。 目前，世界上能制造 EUV 光刻机的，只有一个企业，它就是荷兰光刻机巨头 ASML（中文名为阿斯麦）。实际上，作为一家外企，ASML 进入到中国市场已超过 30 年，能够说是渊源深厚。 但是，由于商业之外的原因，ASML 无法向中国市场出口 EUV 光刻机，尽管它自己其实是非常乐意的。 背后的始作俑者，还是美国。 1、ASML 与中国市场的深厚渊源 中国大陆市场，一直是 ASML 在全世界内最重要的市场之一。 以 2020 年为例，ASML

  已出货700多台，但EUV 被美国盯死 /

  全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 (ASML) 今日公布 2017 第一季财报。ASML 第一季营收净额 (net sales) 19.4 亿欧元，毛利率 (gross margin) 为 47.6%，EUV 极紫外光光刻系统的未出货订单则累积到 21 台，价值高达 23 亿欧元。预估 2017 第二季营收净额 (net sales) 将落在 19~20 亿欧元之间，毛利率 (gross margin) 约为 43~44%。 ASML 总裁暨首席执行官温彼得 (Peter Wennink) 指出 : 「积极的产业环境为 2017 年提供了一个的强劲开始，我们预估这样健康的市场需求将持续今年一整年。我们正真看到客户对于 DUV的

  第一季营收 /

  中兴通讯受美国政府制裁一案，为大陆高端芯片的自主拉起警报，大陆自官方到民间无不立刻加大芯片研发的投资力度。昨（21）日有消息指，长江存储与中芯国际在近日突破海外封锁，先后从荷兰艾司摩尔（ASML）公司订购了两台总值近两亿美元的高端光刻机。 光刻机又称曝光机，是芯片制程最关键步骤“光刻”的核心机器。ASML则是全球高端光刻机的霸主，在该领域拥有全球90％的市占率。 每日经济新闻网报导，长江存储从ASML订购的一台光刻机已抵达武汉，这台光刻机价值7,200万美元。此外，外传中芯国际也向ASML订购一台价值高达1.2亿美元的EUV（极紫外线年初交货。 由于国际间有个“瓦圣纳协定”，该协定禁止向非缔约国

  Bourns® Multifuse® 过流/过温保险丝系列再升级， 推出 MF-

  Bourns® Multifuse® 过流/过温保险丝系列再升级，推出 MF-ASML/X 系列，具有高达 0.75 A 额定功率 新型聚合物 PTC 可恢复保险丝封装尺寸仅 0402 且提供更高的保持电流选择 Bourns 全新 Multifuse® PPTC MF-ASML/X 系列. 2024年1月5日 - 美国柏恩 Bourns 全球知名电源、保护和传感解决方案电子组件领导制造供货商，今天宣布将扩展 Multifuse® 聚合物 PTC (PPTC) 可恢复保险丝，并推出更高额定功率型号- MF-ASML/X 系列。 Bourns® MF-ASML075/6 具有最大 0.75 A (Ihold) 额定值，

  /X 系列，具有高达 0.75 A 额定功率 /

  采用特殊照明方式的高/超高数值孔径（NA）的193nm光刻机和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的极限达到了32nm节点。不利的因素是掩膜的复杂度正在以指数级递增，而业界又迫切地需要通过精确的相位控制以达到必需的高成品率。 光刻机成像平面的相位受到其本身的数值孔径、掩膜的斜率和3D掩膜效应极大的影响，特别是当特征尺寸接近分辨率极限的时候。在45nm和32nm节点，为了确认和保证精确的刻写PSM并获得足够的成品率，有必要测量产品特征中与光刻机相关的相位。然而控制需要精准的测量，直到现在相位的测量依然使用基于干涉仪的测量工具。如此产生的问题是，评估相位一定要使用比产品特征高数量级的参考特征，这些测量平台将受到局限。高分辨率原子力显微镜

  半导体设备研究系列之明暗场缺陷检验测试设备：一“明”一“暗”检缺陷，相辅相成提良率

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